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小孔プリント基板用高速・高品位めっき装置

 

 超振動流動技術、カソードロッカー(揺動)、多孔質セラミック製参気管によるミクロ爆気、及びカソード加振の4大要素を同時に機能させることにより、今までの液の表面張力で液の流入が困難であった100ミクロン以下の小孔径の穴の中に素早く液を流通させ世界で初めてその実用化に成功しました。

日本特許 2988624 米国特許 6123815
EPC    0915182 台湾特許 125786
韓国特許296786 中国特許 90758
香港特許 1020202 

 

超振動「スーパーコントロールシステム」による製品の一例

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スルホール ブラインドビア
2A/du43分
ビアポスト
(フレキシブル基板)


特長

1 小孔径(100ミクロン前後)の多層プリント基板のするホールにも高スローイングパワーで2倍以上の高速メッキが可能。
2 プリント基板の小孔のBVH(30ミクロン〜50ミクロン)にも良好なメッキができる。
3 プリント基板のするホール内のガスピット不良がない。
4 高アスペクト比、小孔用のプリント基板メッキに最適。
5 均一電着性(標準偏差が約1.0前後)がどの方法よりも優れている。
6 光沢性においてより優れている。
7 表面処理液の種類に関係なく、従来より優れた製品を短時間で得ることが出来る。

 

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プリント基板用ニッケル・金めっき装置 スーパーコントロールシステム

 

 

小孔プリント基板用高速・高品位めっき装置
スーパーコントロールシステム

 

 

【平成13年度全国発明表彰 発明賞受賞】

 

 高速度情報ネットワーク社会の到来により、情報通信機は高速・高機能化および小型軽量化へ向けた早急な技術革新が世界的に求められています。

 本発明はそれらの情報通信機に内蔵されているプリント配線板をより小型化、高密度化するための超微細表面技術である以下の技術を、商業的生産に世界で初めて成功したものです。

 1) 小径スルホール内の完全めっき
 2) 小径ブラインドビアホール内の完全めっき
 3) 小径ビアポストめっき
 4) 微笑バンプめっき

 これらに対応する従来技術としては、新添加剤の使用(めっき液組成をを含む)、エアレーション撹拌やカソードロッカー(揺動)の工夫、パルス整流器による電流制御方式及びこれらの技術の組み合わせでした。

 ところが、これらではせいぜい100ミクロンφ以上の小径に対しては対応が可能ですが、数ミクロンφ〜50ミクロンφの極小径の製品に対しての商業的生産には全く不可能という状況でした。また、高機能化を必要としているプリント基板関係ではその多層化が進んでおり、アスペクト比の面では従来5前後であったものが、20前後という高度なものも表れており、この内面の均一にめっきには唯一本発明製品が対応できる状態です。

 本発明製品が、より高度な多層基板に対しての真価が業界に逐次実証されることにより、急速にその技術革新が実現され、情報通信機の発展に大きく寄与することになるでしょう。

 本発明の基本構成は、振動を流体に変換するα−攪拌機、カソード加振システム、ミクロエアーレーション及びカソードロッカー(揺動)の4つの技術の組み合わせであり(写真参照)、特に極小口径内への液体の流通はα−攪拌機とカソード加振の二大要素で成り立っています。

 この新技術を超微細加工された高速度プリント配線板やチップの表面処理技術に駆使することにより、正解的に必要とされている高度な三次元チップ積層技術が実現し、はるかに膨大な情報量を瞬時に伝送することが可能となります。

平成13年度全国発明表彰受賞者功績概要より